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雙靶源磁控濺鍍系統
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【決標階段】國立高雄科技大學 的標案「雙靶源磁控濺鍍系統」 已於 115/08/31 完成決標程序。 本頁面提供完整的決標結果資訊，包括得標廠商名單、決標金額、底價等詳細資料。
您可以透過本頁面查詢決標詳情、得標廠商資訊及預算執行狀況，作為未來投標策略參考。本案已完成採購程序。
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